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设备材料

半导体设备国产化:刻蚀机率先突围

张明远2026/3/20321 阅读
半导体设备国产化:刻蚀机率先突围

中微公司、北方华创在刻蚀设备领域取得突破,5nm刻蚀机已进入国际一线晶圆厂。

刻蚀设备重要性

刻蚀是芯片制造三大核心工艺之一,占晶圆制造设备投资的20%以上。

国产进展

  • **中微公司**:5nm刻蚀机获台积电认证
  • **北方华创**:硅刻蚀机市场份额持续提升
  • **屹唐半导体**:去胶设备已量产
  • 技术挑战

  • 先进制程刻蚀精度要求极高
  • 设备可靠性需长期验证
  • 备件供应链需完善